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MCML-100/MCML-120A SERIES 無掩模數字光刻機 Digital Maskless Aligner  2022-01-26

產品特點

采用數字微鏡 (DMD) 的無掩模掃描式光刻機,365nm波長

直接從數字圖形生成光刻圖案,免去制作掩模板的中間過程,支持直接讀取GDSII和BMP文件

全自動化的對焦和套刻,易于使用

晶圓連續運動配合DMD動態曝光,無拼接問題。全幅面絕對定位精度0.1um

套刻精度: 0.2um

500 nm / 1 um分辨率,100mm x 100mm最大幅面(4~6寸晶圓),滿幅面曝光時間5~30分鐘

500um最小線寬

可灰度曝光(128階)

尺寸小巧,可配合專用循環裝置產生內部潔凈空間

產品型號
縱向   橫向
型號 貨號 操作 名稱
MCML-120A H80050011 無掩模數字光刻機 MCML-120A   [PDF] 波長 365nm 最大幀 100mm x 100mm 分辨率 500nm 灰度光刻 128 levels 最大曝光量 2000mJ/cm2 對準精度 <100nm 場曲率 < 1 um 速度 2.5mm2 /sec 輸入文件 BMP, GDSII Z級精度 <1 um 環境 20~25℃ 8-10周
MCML-110A H80050012 無掩模數字光刻機 MCML-110A   [PDF] 波長 365nm 最大幀 100mm x 100mm 分辨率 1.0um 灰度光刻 64 levels 最大曝光量 500mJ/cm2 對準精度 <200nm 場曲率 < 1 um 速度 5mm2 /sec 輸入文件 BMP, GDSII Z級精度 <1 um 環境 20~25℃ 8-10周
通用參數

應用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工

帶有2.5D圖案的微光學元件,衍射光器件制作

 教學、科研

 

參數


MCML-110A

MCML-120A

Wavelength 波長

365nm

365nm

Max. frame 最大幀

100mm x 100mm

100mm x 100mm

Resolution 分辨率

1.0um

500nm

Grayscale lithography

灰度光刻

64 levels

128 levels

Max exposure

最大曝光量

500mJ/cm2

2000mJ/cm2

Alignment accuracy

對準精度

<200nm

<100nm

field curvature

場曲率

< 1 um

< 1 um

Speed

速度

5mm2 /sec

2.5mm2 /sec

Input file

輸入文件

BMP, GDSII

BMP, GDSII

Z level accuracy

Z級精度

<1 um

<1 um

Environment

環境

20~25℃

20~25℃

 

樣品





(SU8-2002, 2um膠厚,2寸硅基底)











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